高真空磁控溅射镀膜机

1、适用：大专院校、科研院所及企业进行薄膜新材料的科研与小批量制备。

2、产品特点/用途：

?设备可溅射/蒸发两用；占地面积小，价格便宜，性能稳定，使用维护成本低；

?可用于制备单层及多层金属膜、介质膜、半导体膜、磁性膜、传感器膜及耐热合金膜、硬质膜、耐腐蚀膜等；

?镀膜示例：银、铝、铜、镍、铬、镍铬合金、氧化钛、ITO、二氧化硅等；

?单靶溅射、多靶依次溅射、共同溅射等功能。